Окс Ефим Михайлович

Образование:

Доктор технических наук (плазменная электроника), Институт сильноточной электроники, 1994 г.

Кандидат технических наук (физика плазмы), Институт сильноточной электроники, 1985 г.

Бакалавр по направлению "Электроника" (с отличием первой степени), Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, 1978 г.

Профессиональные назначения:

1995-настоящее время Профессор, заведующий кафедрой физики, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия

1991-настоящее время Руководитель группы плазменных источников (с 2001 года - лаборатория плазменных источников) Института сильноточной электроники (СИЛ) РАН, Томск, Россия

1989-настоящее время Старший научный сотрудник, HCEI

1985–89 научный сотрудник, HCEI

1982–85 аспирант HCEI.

1978-82 младший научный сотрудник, HCEI

1973-'78 Студент-исследователь, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия

Научные интересы:

(i) основное направление: физика низкотемпературной плазмы, эмиссия электронов из плазмы, физика электронных и ионных пучков, источники электронов с плазменным катодом, источники ионов, явления вакуумной дуги.

(ii) другие области: модификация поверхности материала; ионная имплантация; новые применения плазмы, источников электронов и ионов

(iii) текущий научный интерес: Электронная эмиссия из плазмы, эмиссионные методы экспериментального исследования вакуумно-дуговых явлений. Многократная ионизация в плазме вакуумной дуги; генерация электронного пучка при высоком давлении; плазмохимические применения электронных пучков; ионная имплантация и синтез тонких пленок; источники ионов для ускорителей тяжелых ионов и термоядерного синтеза, сильноточное импульсное магнетронное распыление.

Публикации и презентации на конференциях:

автор книги «Источники электронов с плазменым катодом: физика, техника, применение». 2005.

(на русском языке), переведено на английский язык и опубликовано Willey в сентябре 2006 г.

Глава книги об источнике ионов, посвященная вкладу вакуумно-дугового источника ионов

Более 300 статей опубликовано в рецензируемых журналах (около половины из этих статей были опубликованы в J.Appl.Phys, Appl.Plys Letters, Rev. Sci. Instrum., IEEE Trans on Plasma Sci. и других)

около 150 нерецензируемых докладов на конференциях, в том числе около 10 приглашенных на международные конференции,

Индекс Хирша: Web of Science -30, Scopus -31, Google Scholar -46, более 6000 цитирований.